[发明专利]图像感测装置的制造方法无效
申请号: | 200810213814.8 | 申请日: | 2008-09-08 |
公开(公告)号: | CN101604661A | 公开(公告)日: | 2009-12-16 |
发明(设计)人: | 杨政霖;彭进宝;刘宇杰;曾志翔 | 申请(专利权)人: | 采钰科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/82 | 分类号: | H01L21/82;H01L27/146 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 陈 晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明揭示一种图像感测装置的制造方法。提供一基板,具有一感测区,感测区内包括一像素阵列。在基板上涂覆一光致抗蚀剂层。分别借助至少两个二元半色调光掩模对光致抗蚀剂层的至少两个区域进行曝光,其中所述多个二元半色调光掩模中第一及第二二元半色调光掩模具有不同的透光分布。对曝光后的光致抗蚀剂层进行显影,以形成一凸面的微透镜阵列,其对应于感测区的像素阵列,且包括至少两个具有不同凸面轮廓的微透镜。本发明能够增加图像感测装置的光敏性。 | ||
搜索关键词: | 图像 装置 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种图像感测装置的制造方法,包括:提供一基板,具有一感测区,该感测区内包括一像素阵列;在该基板上涂覆一光致抗蚀剂层;分别借助至少两个二元半色调光掩模对该光致抗蚀剂层的至少两个区域进行曝光,其中所述多个二元半色调光掩模中第一及第二二元半色调光掩模具有不同的透光分布;以及对该曝光后的光致抗蚀剂层进行显影,以形成一凸面的微透镜阵列,其对应于该感测区的该像素阵列,且包括至少两个具有不同凸面轮廓的微透镜。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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