[发明专利]图像感测装置的制造方法

权利要求书

1.一种图像感测装置的制造方法，包括：

提供一基板，具有一感测区，该感测区内包括一像素阵列；

在该基板上涂覆一光致抗蚀剂层；

分别借助至少两个二元半色调光掩模对该光致抗蚀剂层的至少两个区域进行曝光，其中所述多个二元半色调光掩模中第一及第二二元半色调光掩模具有不同的透光分布；以及

对该曝光后的光致抗蚀剂层进行显影，以形成一凸面的微透镜阵列，其对应于该感测区的该像素阵列，且包括至少两个具有不同凸面轮廓的微透镜。

2.如权利要求1所述的图像感测装置的制造方法，其中该第一及该第二二元半色调光掩模具有相同的投射图案且该投射图案由多个非透明点状图案层分散排列而成。

3.如权利要求2所述的图像感测装置的制造方法，其中该第一及该第二二元半色调光掩模具有不同的投射图案尺寸以及不同的点状图案尺寸。

4.如权利要求3所述的图像感测装置的制造方法，其中该第一二元半色调光掩模中至少两个非透明点状图案层具有不同的点状图案尺寸。

5.如权利要求2所述的图像感测装置的制造方法，其中该第一及该第二二元半色调光掩模具有相同的投射图案尺寸且该第一二元半色调光掩模中至少两个非透明点状图案层具有不同的点状图案尺寸。

6.如权利要求1所述的图像感测装置的制造方法，其中该第一及该第二二元半色调光掩模具有不同的投射图案，所述多个投射图案分别由多个非透明点状图案层分散排列而成，且该第一及该第二二元半色调光掩模具有相同的投射图案尺寸以及相同的点状图案尺寸。

7.如权利要求1所述的图像感测装置的制造方法，其中该光致抗蚀剂层中借助该第一二元半色调光掩模进行曝光的区域是对应于该感测区内该像素阵列的周围部，而借助该第二二元半色调光掩模进行曝光的区域是对应于该感测区内该像素阵列的中心部。

8.如权利要求7所述的图像感测装置的制造方法，其中该第一及该第二二元半色调光掩模具有相同的投射图案且该投射图案由多个非透明点状图案层分散排列而成。

9.如权利要求8所述的图像感测装置的制造方法，其中该第一二元半色调光掩模的投射图案尺寸以及点状图案尺寸大于该第二二元半色调光掩模的投射图案尺寸以及点状图案尺寸。

10.如权利要求9所述的图像感测装置的制造方法，其中该第一二元半色调光掩模中至少两个非透明点状图案层具有不同的点状图案尺寸。

11.如权利要求8所述的图像感测装置的制造方法，其中该第一及该第二二元半色调光掩模具有相同的投射图案尺寸且该第一二元半色调光掩模中至少两个非透明点状图案层具有不同的点状图案尺寸。