[发明专利]一种金属/陶瓷微叠层材料及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200810209523.1 申请日: 2008-11-26
公开(公告)号: CN101413101A 公开(公告)日: 2009-04-22
发明(设计)人: 梁军;史国栋;陈贵清 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: C23C14/28 分类号: C23C14/28;C23C14/14;C23C14/08;B32B15/04;B32B18/00
代理公司: 哈尔滨市哈科专利事务所有限责任公司 代理人: 崔东辉
地址: 150001黑龙江*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 发明提供一种金属/陶瓷微叠层材料及其制备方法。采用电子束物理气相沉积技术,通过电子枪交替蒸发金属和陶瓷靶材来制备的。陶瓷层厚度为1μm,金属层厚度为10~35μm。金属层和陶瓷层的体积分数比即厚度即层厚比为10~35。所用的金属靶材为Ni-20Co-12Cr-4Al(wt%),陶瓷靶材为含8wt%Y2O3的ZrO2(YSZ)。金属/陶瓷微叠层材料具有大层厚比,因此该材料能在很大程度上保持金属材料的韧性好的特点。同时,叠层结构的存在,限制了金属层中柱状晶的长大,减少了裂纹沿金属晶界扩展的可能性。与单层EB-PVD金属薄板相比,该微叠层材料中的金属层发生脆性沿晶断裂的几率更小,金属层强度更高。
搜索关键词: 一种 金属 陶瓷 微叠层 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
1. 一种金属/陶瓷微叠层材料及其制备方法,其特征在于:所述的金属/陶瓷微叠层材料,是采用电子束物理气相沉积技术,通过电子枪交替蒸发金属和陶瓷靶材来制备的;陶瓷层厚度为1μm;金属层厚度为10~35μm;金属层和陶瓷层的体积分数比即层厚比为10~35;所用的金属靶材为Ni-20Co-12Cr-4Al(wt%),陶瓷靶材为含8wt% Y2O3的ZrO2(YSZ)。
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