[发明专利]一种金属/陶瓷微叠层材料及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200810209523.1 申请日: 2008-11-26
公开(公告)号: CN101413101A 公开(公告)日: 2009-04-22
发明(设计)人: 梁军;史国栋;陈贵清 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: C23C14/28 分类号: C23C14/28;C23C14/14;C23C14/08;B32B15/04;B32B18/00
代理公司: 哈尔滨市哈科专利事务所有限责任公司 代理人: 崔东辉
地址: 150001黑龙江*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要:
搜索关键词: 一种 金属 陶瓷 微叠层 材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种金属/陶瓷微叠层材料的制备方法,其特征在于:具体工艺过程如下:

(1)抽真空:将φ1000mm的基板表面抛光,并在丙酮中超声波清洗10min,吹干后连接到位于工作室顶端的竖直旋转轴上;将金属靶材和陶瓷靶材分别放置于两个坩埚内,摆放妥当后,抽真空到10-3Pa;

(2)加热基板:采用辐射式加热器将基板加热至500℃以上,排放基板上所吸附的气体;同时烘烤真空室壁,以使吸附的气体在正式蒸发前排放出来,保证蒸发过程中具有较高的真空度;然后采用断续加热的方式调整基板温度和真空度;真空度稳定在10-3~10-2Pa之后,使基板温度稳定在650±20℃范围内,同时,通过电机控制基板转速为6rpm;

(3)沉积剥离层:为了防止高温合金薄板同基板发生粘结,在沉积合金板之前,要先沉积脱模剂氟化钙,厚度为5--10微米,加热束流为0.3A;

(4)沉积薄板:采用两把电子枪交替蒸发陶瓷靶材和金属靶材,蒸发金属靶材时电子束流被控制为1.9±0.1A,每层沉积时间为8分钟;蒸发陶瓷靶材时电子束流被控制为0.8±0.1A,每层沉积时间为2分钟,通过调节电子束电流的大小和熔池大小来控制两种靶材的蒸发量;沉积过程中,基板绕竖直轴旋转,基板转速和温度保持恒定;其中,所述的陶瓷靶材厚度为1μm;金属靶材厚度为10~35μm;金属靶材和陶瓷靶材的体积分数比即层厚比为10~35;所用的金属靶材为Ni-20Co-12Cr-4Alwt%,陶瓷靶材为含8wt%Y2O3的ZrO2

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