[发明专利]一种用于纳米压印的含氟硅低表面能材料及其制备方法

摘要

本发明公开了一种用于纳米压印的含氟硅低表面能材料及其制备方法，采用单酚或双酚，伯胺或二伯胺，甲醛作为原料，在有溶剂或无溶剂的条件下，酚，伯胺，醛混合，在60～200℃反应温度下，反应10min～12h，压力0.1～30MPa，得到苯并恶嗪单体；利用得到的苯并恶嗪单体，配成1～200mg/ml的溶液，均匀的旋涂在玻璃片或硅片或具有纳米图案的模板上，在60～300℃范围内进行热固化开环交联反应5min～20h，得到低表面能的聚苯并恶嗪。本发明的优点：原料比较低廉，成本较低；聚合物比较容易制备，热固化时不需要添加催化剂，且无副产物的生成；聚合物成膜性较好，聚合物膜的表面能比较低，抗粘性更好，可以得到更好的转移图案。

主权项

1.一种用于纳米压印的含氟硅低表面能材料，其特征在于，其结构式为式(1)到式(9)中的任意一种，在式(1)，(2)，(3)中，-R₁，R₂，R₃，R₄和R₅选自氢，脂肪族，芳香族，硅氧烷，卤素或者胺基团中的一种，其中R₁或者R₅两者中至少有一个为氢基团；-R和R’选自氢，脂肪族，芳香族，卤代烃，硅氧烷，卤素或者胺基团中的一种；-R₁’，R₂’，R₃’，R₄’，R₅’，R₆’，R₇’选自氢，脂肪族，芳香族，硅氧烷，卤素或者胺中的一种；在式(4)，(5)，(6)中，-R₁-R₁₀选自氢，脂肪族，芳香族，硅氧烷，卤素或者胺基团中的一种，其中R₁或者R₄两者中至少有一个为氢基团，R₈或者R₉两者中至少有一个为氢基团；-R和R’选自氢，脂肪族，芳香族，卤代烃，硅氧烷，卤素或者胺基团中的一种；-R₁’，R₂’，R₃’，R₄’，R₅’，R₆’，R₇’选自氢，脂肪族，芳香族，硅氧烷，卤素或者胺中的一种；在式(7)，(8)，(9)中，-R’、R”、R₁’、R₂’、R₁”、R₂”选自氢，脂肪族，芳香族，硅氧烷，卤素，或者胺基团中的一种；-R₁和R₂选自氢，脂肪族，芳香族，卤代烃，硅氧烷，卤素或者胺基团中的一种；-R₁’，R₂’，R₃’，R₄’，R₅’，R₆’，R₇’选自氢，脂肪族，芳香族，硅氧烷，卤素或者胺中的一种。