[发明专利]一种用于纳米压印的含氟硅低表面能材料及其制备方法

权利要求书

1.一种用于纳米压印的含氟硅低表面能材料的制备方法，其特征在于，具 体步骤为，

（1）将酚，伯胺和醛原料进行混合，在有溶剂或者无溶剂的条件下，60～ 200℃下，反应10min～12h，合成苯并恶嗪单体；其中，酚，伯胺，醛的摩尔比 为1:1:2或1:2:4；

所述的酚选自对三氟甲基苯酚，对氟苯酚或者全氟双酚A中的一种；

所述的伯胺选自甲胺，乙胺，烯丙胺，胺丙基三甲基硅氧烷，全氟己胺， 全氟辛胺，苯胺，三氟苯胺，对三氟甲基苯胺，2-三氟甲基苯胺，间氟苯胺或 者对氟苯胺中的一种；

所述的醛为甲醛或者多聚甲醛中的一种；

所述的溶剂选自二恶烷，乙酸乙酯，环己烷，甲醇或者氯仿中的一种；

反应器内压力为0.1MPa～30Mpa；

（2）利用合成的单体，选择溶剂配成溶液，均匀的旋涂在玻璃片或者硅片 或者具有纳米图案的模板上，在60～300℃下进行热固化开环交联反应5min～ 20h，得到含氟硅低表面能材料；

所述的溶剂选自四氢呋喃，乙醚，乙酸乙酯，环己烷，甲醇或者氯仿中的 一种；

所述的旋涂条件为转速为500～5000转/分，旋涂时间为20～60s；

含氟硅低表面能材料的结构式为式Ⅰ，式Ⅱ，式Ⅲ，式Ⅳ中的一种；

2.根据权利要求1所述的一种用于纳米压印的含氟硅低表面能材料的制备 方法，其特征在于，在所述的步骤（1）中，所述的醛组分为多聚甲醛。

3.根据权利要求1所述的一种用于纳米压印的含氟硅低表面能材料的制备 方法，其特征在于，在所述的步骤（1）中，所述的溶剂为二恶烷。

4.根据权利要求1所述的一种用于纳米压印的含氟硅低表面能材料的制备 方法，其特征在于，在所述的步骤（2）中，所述的溶剂为四氢呋喃。