[发明专利]一种研磨颗粒及其制造方法和化学机械研磨液的制造方法无效
| 申请号： | 200810190550.9 | 申请日： | 2008-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN101475203A | 公开（公告）日： | 2009-07-08 |
| 发明（设计）人： | 洪锡敏;徐明源;金容国;黄晙夏;金廷润;金东炫 | 申请（专利权）人： | K.C.科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C01F17/00 | 分类号： | C01F17/00;C09K3/14;C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郭鸿禧;罗延红 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种化学机械研磨液用的研磨颗粒及其制造方法和化学机械研磨液的制造方法。化学机械研磨液用的研磨颗粒的制造方法包括：准备原料前体；干燥上述原料前体；和利用与空气相比缺少氧气的气氛形成的煅烧炉来煅烧上述干燥的原料前体。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 研磨 颗粒 及其 制造 方法 化学 机械 | ||
【主权项】：
1、一种化学机械研磨液用的研磨颗粒的制造方法，其包括：准备原料前体；干燥上述原料前体；和利用与空气相比缺少氧气的气氛形成的煅烧炉来煅烧上述干燥的原料前体。
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