[发明专利]用于液晶显示装置的阵列基板及其制造方法有效
| 申请号: | 200810187270.2 | 申请日: | 2008-12-19 |
| 公开(公告)号: | CN101598876A | 公开(公告)日: | 2009-12-09 |
| 发明(设计)人: | 金锡垣;扈源俊;权赫振;柳昌模 | 申请(专利权)人: | 乐金显示有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;H01L27/12;H01L21/84 |
| 代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐金国 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | 本发明公开用于液晶显示装置的阵列基板及其制造方法。用于液晶显示装置的阵列基板的制造方法包括:在金属材料层上形成初始光致抗蚀剂(PR)图案;使用初始PR图案作为蚀刻掩模蚀刻金属材料层,以形成数据线和金属材料图案,其中,初始PR图案处于数据线上;在初始PR图案上执行第一灰化处理,以部分去除初始PR图案,从而形成第一灰化PR图案,第一灰化PR图案具有比初始PR图案更小的宽度和更小的厚度,使得通过第一灰化PR图案暴露出数据线的端部;通过第一干蚀刻处理蚀刻本征非晶硅层和掺杂质非晶硅层;在基板上形成源极和漏极。 | ||
| 搜索关键词: | 用于 液晶 显示装置 阵列 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种在用于液晶显示装置的阵列基板上制造数据线的方法,该方法包括如下步骤:在基板上形成栅极绝缘层,本征非晶硅层,掺杂质非晶硅层和金属材料层;在该金属材料层上形成初始光致抗蚀剂PR图案;使用该初始PR图案作为蚀刻掩模蚀刻该金属材料层,以形成该数据线和金属材料图案,其中,该初始PR图案处于该数据线上;在该初始PR图案上执行第一灰化处理,以部分去除该初始PR图案,从而形成第一灰化PR图案,该第一灰化PR图案具有比该初始PR图案更小的宽度和更小的厚度,从而该数据线的端部通过该第一灰化PR图案暴露出;使用该数据线作为蚀刻掩模,通过第一干蚀刻处理蚀刻该本征非晶硅层和该掺杂质非晶硅层,以在该数据线下面形成第一和第二图案;蚀刻该金属材料图案的一部分,以在该基板上形成源极和漏极;去除该第一灰化PR图案;在所述源极,漏极和数据线上形成钝化层;以及在该钝化层上形成像素电极。
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