[发明专利]钛膜的成膜方法和钛膜的成膜装置有效
| 申请号: | 200810185711.5 | 申请日: | 2008-12-08 |
| 公开(公告)号: | CN101451234A | 公开(公告)日: | 2009-06-10 |
| 发明(设计)人: | 成嶋健索;熊谷晃;若林哲 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号: | C23C16/14 | 分类号: | C23C16/14;C23C16/455;H01L21/285 |
| 代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙 淳 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明提供钛膜的成膜方法和钛膜的成膜装置,通过使钛的硅化物结构一致,能够改善表面形态等。在钛膜的成膜方法中,在能够抽真空的处理容器(14)内供给包含钛的原料气体、还原气体和非活性气体,并且在上述处理容器内产生等离子体,在从表面露出有硅部分(6)和绝缘膜(2)的被处理体(W)的表面上形成钛膜(8),其中,将上述还原气体的供给量相对于上述还原气体和非活性气体的合计流量的比率设定为67%以下。由此,使钛的硅化物结构一致,改善表面形态等。 | ||
| 搜索关键词: | 方法 装置 | ||
【主权项】:
1. 一种钛膜的成膜方法,其向能够抽真空的处理容器内供给包含钛的原料气体、还原气体和非活性气体,并且在所述处理容器内产生等离子体,在从表面露出有硅部分和绝缘膜的被处理体的表面上形成钛膜,该钛膜的成膜方法的特征在于:所述还原气体的供给量相对于所述还原气体和非活性气体的合计流量的比率设定为67%以下。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





