[发明专利]一种薄膜沉积装置和其沉积方法有效

专利信息
申请号: 200810184442.0 申请日: 2008-12-24
公开(公告)号: CN101469412A 公开(公告)日: 2009-07-01
发明(设计)人: 申寅澈;田英洙 申请(专利权)人: K.C.科技股份有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;H01L21/00
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 代理人: 郭鸿禧;罗延红
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供了一种薄膜沉积装置和其方法,其包括反应室,可以旋转地装载在上述反应室内且安装至少一个衬底的基座,装载在上述反应室的上部而将多个气体分别地提供给上述反应室内的气体供给单元,与提供上述多个气体的各个区域的边界相对应装载在上述基座上且具备排出周围气体的排气线的分离排气单元和对上述分离排气单元提供吸入力的真空抽气单元,其可以分离和排出源气和反应气体且通过减少粒子等不纯物的产生可以提高薄膜质量。
搜索关键词: 一种 薄膜 沉积 装置 方法
【主权项】:
1、一种薄膜沉积装置,其包括:反应室;可以旋转地装载在上述反应室内且安装至少一个衬底的基座;装载在上述反应室的上部而将多个气体分别地提供给上述反应室内的气体供给单元;与提供上述多个气体的各个区域的边界相对应装载在上述基座上且具备排出周围气体的排气线的分离排气单元;和对上述分离排气单元提供吸入力的真空抽气单元。
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