[发明专利]化学气相沉积设备

摘要

本发明是一种化学气相沉积设备，包括一传输模块腔室，连接一装载室与一制程模块腔室，且具有形成在底部中心区域的一自控装置设置孔；一支撑框架，支撑传输模块腔室的下表面；一基板处理自控装置，具有以将基板处理自控装置插入在自控装置设置孔内的状态而设置在传输模块腔室的一上部件，以将一基板传输到装载室以及制程模块腔室；以及一变形吸收单元，连结到底部与基板处理自控装置，以缓冲且吸收底部的变形，避免将底部的变形转换到基板处理自控装置。

主权项

1.一种化学气相沉积设备，其特征在于，包含：一传输模块腔室，连接一装载室以及一制程模块腔室，且在所述传输模块腔室一底部的一中心部位形成一自控装置设置孔；一支撑框架，支撑所述传输模块腔室的一下部；一基板处理自控装置，设置在传输模块腔室的一上部，其是将所述基板处理自控装置的一部位插入到自控装置设置孔，并将一基板传输到所述装载室以及所述制程模块腔室；以及一变形吸收单元，连结到所述底部以及所述基板处理自控装置，并吸收所述底部的变形，以避免所述底部的变形转换到所述基板处理自控装置。