[发明专利]多层立体线路的结构及其制作方法有效
申请号: | 200810169128.5 | 申请日: | 2008-10-27 |
公开(公告)号: | CN101730397A | 公开(公告)日: | 2010-06-09 |
发明(设计)人: | 黄瀚霈;余丞宏 | 申请(专利权)人: | 欣兴电子股份有限公司 |
主分类号: | H05K3/46 | 分类号: | H05K3/46;H05K3/40;H05K3/10 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种多层立体线路的结构及其制作方法。多层立体线路的制作方法如下所述。首先,提供立体绝缘结构。接着,在立体绝缘结构的表面上形成第一立体线路结构。然后,形成绝缘层,以覆盖第一立体线路结构。之后,在绝缘层上形成第二立体线路结构。然后,形成至少一贯穿绝缘层的导电孔道,以使第二立体线路结构与第一立体线路结构电性连接。 | ||
搜索关键词: | 多层 立体 线路 结构 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种多层立体线路的制作方法,包括:提供立体绝缘结构;于该立体绝缘结构的表面上形成第一立体线路结构;形成绝缘层,该绝缘层覆盖该第一立体线路结构;于该绝缘层上形成第二立体线路结构;以及形成至少一贯穿该绝缘层的导电孔道,以使该第二立体线路结构与该第一立体线路结构电性连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于欣兴电子股份有限公司,未经欣兴电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810169128.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。