[发明专利]电致发光元件及其制造方法无效
| 申请号： | 200810168761.2 | 申请日： | 2008-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN101425565A | 公开（公告）日： | 2009-05-06 |
| 发明（设计）人： | 饭泉安广;下河原匡哉 | 申请（专利权）人： | 大日本印刷株式会社 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;H01L51/50 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 熊玉兰;李平英 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及电致发光元件及其制造方法。本发明的主要目的在于提供可容易使含量子点的发光层形成图案的EL元件的制造方法。本发明包括：润湿性变化层形成工序，在形成有第1电极层的基板上，形成含光催化剂的、润湿性因伴随能量照射的光催化剂的作用而发生变化的润湿性变化层；润湿性变化图案形成工序，通过对上述润湿性变化层按图案状进行能量照射，在上述润湿性变化层表面形成由亲液性区域和抗液性区域构成的润湿性变化图案。在上述亲液性区域上，涂布含周围配置有配体的量子点的发光层形成用涂布液，形成发光层。由此可得到EL元件。 | ||
| 搜索关键词： | 电致发光 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1. 电致发光元件的制造方法，其特征在于，包括下述工序：润湿性变化层形成工序，在形成有第1电极层的基板上，形成含光催化剂的、润湿性因伴随能量照射的光催化剂的作用而发生变化的润湿性变化层；润湿性变化图案形成工序，通过对上述润湿性变化层按图案状进行能量照射，在上述润湿性变化层表面形成由亲液性区域和抗液性区域构成的润湿性变化图案；发光层形成工序，在形成有润湿性变化图案的上述润湿性变化层上，涂布含周围配置有配体的量子点的发光层形成用涂布液，在上述亲液性区域上形成发光层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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