[发明专利]涂敷处理方法、涂敷处理装置和计算机可读取的存储介质有效
| 申请号： | 200810161932.9 | 申请日： | 2008-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN101398627A | 公开（公告）日： | 2009-04-01 |
| 发明（设计）人： | 吉原孝介;井关智弘;高柳康治 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 闫小龙;王小衡 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及涂敷处理方法、涂敷处理装置和计算机可读取的存储介质。一种基板的涂敷处理方法，具有：第一工序，在使基板旋转的状态下，从喷嘴向该基板的中心部喷出涂敷液，将涂敷液涂敷在基板上；第二工序，在第一工序之后，对基板的旋转减速，使基板持续旋转；第三工序，在第二工序之后，对基板的旋转加速，使基板上的涂敷液干燥，其中，在第一工序之前，以第一速度的恒定速度使基板旋转，在第一工序中，使在开始前具有第一速度的基板的旋转逐渐加速，以便在开始后其速度连续地变动，在结束时，使基板的旋转的加速度逐渐减少，使基板的旋转达到比第一速度快的第二速度。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 方法 装置 计算机 读取 存储 介质 | ||
【主权项】：
1. 一种基板的涂敷处理方法，其特征在于，具有：第一工序，在使基板旋转的状态下，从喷嘴向该基板的中心部喷出涂敷液，将涂敷液涂敷在基板上；第二工序，在第一工序之后，使基板的旋转减速，并使基板持续旋转；第三工序，在第二工序之后，使基板的旋转加速，使基板上的涂敷液干燥，在所述第一工序之前，以第一速度的恒定速度使基板旋转，在所述第一工序中，使在开始前为所述第一速度的基板的旋转逐渐加速，使得在开始后其速度连续地变动，在结束时，使基板的旋转的加速度逐渐减少，使基板的旋转收敛为比所述第一速度快的第二速度。
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