[发明专利]一种薄膜太阳电池吸收层的制备方法无效

专利信息
申请号: 200810153614.8 申请日: 2008-11-28
公开(公告)号: CN101752451A 公开(公告)日: 2010-06-23
发明(设计)人: 方小红;赵彦民;冯金晖;杨立;李巍 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十八研究所
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 代理人: 李凤
地址: 300381 天*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及一种薄膜太阳电池吸收层的制备方法,包括制备预制层和硒化或硫化反应;制备预制层制得含有部分Se或S的预制层;硒化或硫化反应:将镀有钼和预制层的衬底硒化或硫化处理后,预制层即转变为吸收层。由于制备的预制膜中含有Se或S,将镀有钼和预制层的衬底在特定的温度下,固态硒源或硫源硒化或硫化彻底、完全、均匀,使预制层转变为铜铟镓硒或铜铟镓硫吸收层,有效提高吸收层薄膜性能,满足薄膜太阳电池的要求,从而提高电池性能,并且设备简单,过程可控。
搜索关键词: 一种 薄膜 太阳电池 吸收 制备 方法
【主权项】:
一种薄膜太阳电池吸收层的制备方法,其特征在于:包括制备预制层和硒化或硫化反应;制备预制层:采用真空磁控溅射设备将含有Se或S的CuIn和CuGa靶材同时或先后溅射在镀钼的衬底上,制得含有部分Se或S的预制层;或者采用真空磁控溅射设备将含有Se或S的CuInGa合金靶材溅射在镀钼的衬底上,制得含有部分Se或S的预制层;硒化或硫化反应:将镀有钼和预制层的衬底放入真空加热炉内,快速、均匀的升温,使得基片所在区域温度控制在400-590℃,固态硒源或硫源所在区域温度控制在180-300℃,依据金属预制层的厚度,进行10-30min的硒化或硫化处理后,预制层即转变为吸收层。
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