[发明专利]光照射装置及方法、结晶装置及方法、设备和光调制元件无效
| 申请号： | 200810145201.5 | 申请日： | 2005-02-17 |
| 公开（公告）号： | CN101359101A | 公开（公告）日： | 2009-02-04 |
| 发明（设计）人： | 谷口幸夫 | 申请（专利权）人： | 株式会社液晶先端技术开发中心 |
| 主分类号： | G02B27/42 | 分类号： | G02B27/42;C30B28/02;H01L21/20;H01L21/268;B23K26/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 覃鸣燕;王英 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光照射装置及方法、结晶装置及方法、设备和光调制元件。光照射装置包括光调制元件(1)，调制入射光束的相位以便获得具有最小光强的底部的V形光强分布，以及成像光学系统(3)，以在照射目标表面上提供V形光强分布的方式，将所调制的光束从光调制元件施加到照射目标表面(4)上。光调制元件具有一复振幅透射率分布，使在成像光学系统的图像空间中，在V形光强分布的底部处，复振幅分布的相位值的二次导数基本上变为零。 | ||
| 搜索关键词： | 照射 装置 方法 结晶 设备 调制 元件 | ||
【主权项】：
1.一种光调制元件，调制入射光束的相位以便在照射目标表面上提供V形光强分布，包括：具有彼此不同的固定相位值的至少三种相位区，而且所述相位区的占用面积比根据预定图型改变。
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