[发明专利]光照射装置及方法、结晶装置及方法、设备和光调制元件

权利要求书

1.一种光调制元件，调制入射光束的相位以便在照射目标表面上提供V形光强分布，包括：

具有彼此不同的固定相位值的至少三种相位区，而且所述相位区的占用面积比根据预定图型改变。

2.如权利要求1所述的光调制元件，其特征在于，包括作为至少三种相位区的具有作为参考的0度的参考相位值的参考相位区，具有为具有正值的调相的第一调相值的第一调相区，以及具有为具有负值的调相的第二调相值的第二调相区，该负值的绝对值基本上等于所述第一调相值的绝对值。

3.如权利要求2所述的光调制元件，其特征在于，相对于所述参考相位区，所述第一调相区的占用面积比随其改变的图型基本上等于相对于所述参考相位区，所述第二调相区的占用面积比随其改变的图型。

4.一种光照射装置，其特征在于，包括：

光调制元件，调制入射光束的相位以便获得具有最小光强的底部的V形光强分布；以及

成像光学系统，以在照射目标表面上提供所述V形光强分布的方式，将所调制的光束从所述光调制元件施加到所述照射目标表面上，

所述光调制元件包括：

透明衬底，具有用于通过所述入射光束的至少一个表面；

在所述衬底的所述表面上设置的参考相位区；

若干第一调相区，具有除180度外，用于所述参考相位区的正调相值；以及

若干第二调相区，具有除180度外，用于所述参考相位区的负调相值，

其中，所述正和负调相值的绝对值相同，以及

所述第一和第二调相区具有相同形状，以及排列成彼此并列以便在横向方向上，它们的区域逐一改变。

5.如权利要求4所述的光照射装置，其特征在于，所述第一调相区包括在所述透明衬底的表面上形成并以一图型排列的若干矩形凹口区，在所述图型中，所述凹口区彼此并列以便它们的区域在横向方向上逐一改变；以及

所述第二调相区包括在所述透明衬底的表面上形成以便与所述凹口区并列并且以与所述凹口区相同的图型排列的矩形凸出区。

6.一种光调制元件，用于调制入射光束以便所调制的光束在照射目标表面上具有V形光强分布，其特征在于包括：

透明衬底，具有用于通过所述入射光束的至少一个表面；

在所述衬底的所述表面上设置的参考相位区；

若干第一调相区，具有除180度外，用于所述参考相位区的正调相值；以及

若干第二调相区，具有除180度外，用于所述参考相位区的负调相值，

其中，所述正和负调相值的绝对值相同，以及

所述第一和第二调相区具有相同形状，以及排列成彼此并列以便在横向方向上，它们的区域逐一改变。

7.如权利要求6所述的光调制元件，其特征在于，所述第一调相区包括在所述透明衬底的表面上形成并以一图型排列的若干矩形凹口区，在所述图型中，所述凹口区彼此并列以便它们的区域在横向方向上逐一改变；以及

所述第二调相区包括在所述透明衬底的表面上形成以与所述凹口区并列并且以与所述凹口区相同的图型排列的矩形凸出区。