[发明专利]光电装置及其制造方法无效
| 申请号： | 200810144456.X | 申请日： | 2008-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN101640238A | 公开（公告）日： | 2010-02-03 |
| 发明（设计）人： | 富振华;刘育泉;王泰钧;王冠儒 | 申请（专利权）人： | 泰谷光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L31/18;H01L31/075;H01S5/00 |
| 代理公司： | 北京泛诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 文 琦;钱惠莲 |
| 地址： | 中国台湾南*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种光电装置的制造方法，包括提供一基板；通过原子层沉积、电子束蒸镀、溅镀、等离子增强化学气相沉积、常压化学气相沉积或感应式耦合等离子增强化学气相沉积，在基板上形成一氮化物缓冲膜；以及在氮化物缓冲膜上形成光电组件。 | ||
| 搜索关键词： | 光电 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光电装置的制造方法，包括：提供一基板；通过原子层沉积、电子束蒸镀、溅镀、等离子增强化学气相沉积、常压化学气相沉积或感应式耦合等离子增强化学气相沉积，在该基板上形成一氮化物缓冲膜；以及在该氮化物缓冲膜上外延形成一光电组件。
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