[发明专利]菲林光罩修补液及修补方法无效
| 申请号： | 200810142390.0 | 申请日： | 2008-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN101344719A | 公开（公告）日： | 2009-01-14 |
| 发明（设计）人： | 杜武兵;李冠红 | 申请（专利权）人： | 深圳市路维电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 深圳市维邦知识产权事务所 | 代理人： | 黄莉 |
| 地址： | 518000广东省深圳市南山*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种菲林光罩修补液，所述修补液为石墨的水溶液。本发明还公开了相应的菲林光罩修补方法。本发明的修补处不会被清洁剂分解，牢固性高，遮光性好，修补的可靠性得到了提升、清洗之后无需再次修补，提高了工作效率、延长了菲林的使用寿命、提升了品质。 | ||
| 搜索关键词： | 菲林光罩 修补 方法 | ||
【主权项】：
1、一种菲林光罩修补液，其特征在于：所述修补液为石墨的水溶液。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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