[发明专利]菲林光罩修补液及修补方法无效
| 申请号: | 200810142390.0 | 申请日: | 2008-08-18 |
| 公开(公告)号: | CN101344719A | 公开(公告)日: | 2009-01-14 |
| 发明(设计)人: | 杜武兵;李冠红 | 申请(专利权)人: | 深圳市路维电子有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
| 代理公司: | 深圳市维邦知识产权事务所 | 代理人: | 黄莉 |
| 地址: | 518000广东省深圳市南山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 菲林光罩 修补 方法 | ||
1、一种菲林光罩修补液,其特征在于:所述修补液为石墨的水溶液。
2、如权利要求1所述的菲林光罩修补液,其特征在于,所述石墨的水溶液的黑度值与菲林光罩表面药膜的黑度值相同。
3、如权利要求2所述的菲林光罩修补液,其特征在于,所述石墨的水溶液的黑度值≥4.0。
4、一种菲林光罩修补方法,其特征在于,包括以下步骤:
配液步骤,将石墨在温水中稀释至其黑度与菲林光罩药膜黑度相同,形成墨汁;
修补步骤,用修补棒将所述墨汁蘸入菲林光罩表面的针孔中至表面平整后,自然风干。
5、如权利要求4所述的菲林光罩修补方法,其特征在于,所述墨汁的黑度值≥4.0。
6、如权利要求5所述的菲林光罩修补方法,其特征在于,所述配液步骤,水的温度在35-40℃之间。
7、如权利要求6所述的菲林光罩修补方法,其特征在于,所述修补步骤中,风干时间为4-5分钟。
8、如权利要求4-7中任一项所述的菲林光罩修补方法,其特征在于,在所述配液步骤具体包括:
将温水倒入砚台中;
将石墨在装有温水的砚台来回研磨。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
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