[发明专利]制造碳薄膜的方法和碳薄膜涂覆体有效

专利信息
申请号: 200810135072.1 申请日: 2008-07-25
公开(公告)号: CN101363111A 公开(公告)日: 2009-02-11
发明(设计)人: 金泽孝明;下田健二;七原正辉;铃木奉努;大森直之 申请(专利权)人: 丰田自动车株式会社;爱信精机株式会社;株式会社东研萨莫技术
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 蔡胜有;王春伟
地址: 日本爱知*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种制造碳薄膜的方法,所述方法包括在基材(5)表面上沉积中间层(6),和在中间层(6)的表面上形成类金刚石碳涂层(1)。在制造碳薄膜的方法中,在中间层(6)的沉积期间将0V到-30V的偏压施加到基材(5)上。
搜索关键词: 制造 薄膜 方法 涂覆体
【主权项】:
1.一种制造碳薄膜的方法,其特征在于包括:在基材(5)的表面上沉积中间层(6);在所述中间层的表面上形成类金刚石碳涂层(1);和其中在所述中间层的沉积期间对所述基材施加0V到-30V的偏压。
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