[发明专利]光掩模及其制造方法和图案转印方法有效
| 申请号： | 200810133697.4 | 申请日： | 2008-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN101349864A | 公开（公告）日： | 2009-01-21 |
| 发明（设计）人： | 佐野道明 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14;G03F1/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种光掩模，该光掩模具有透光部和半透光部，通过图案形成在透明基板上形成的半透光膜来形成规定的图案，通过透过该光掩模的曝光光，在被转印体上形成线宽不足3μm的转印图案，该光掩模包括由透光部和半透光部构成的图案，且上述透光部和半透光部的至少一方具有不足3μm的线宽部分。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩模 及其 制造 方法 图案 | ||
【主权项】：
1.一种光掩模，具有透光部和半透光部，通过图案形成在透明基板上形成的半透光膜而形成规定的图案，通过透过该光掩模的曝光光，在被转印体上形成线宽不足3μm的转印图案，包含由所述透光部和所述半透光部构成的图案，且所述透光部或所述半透光部的至少一方具有不足3μm的线宽的部分。
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G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
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G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
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