[发明专利]光掩模及其制造方法和图案转印方法

权利要求书

1.一种液晶显示装置制造用光掩模，具有透光部和半透光部，通过图 案形成在透明基板上形成的半透光膜而形成规定的图案，在液晶显示装置 制造用的曝光机的曝光条件下，利用使用了365nm～436nm的波段的曝光 光，并通过透过该光掩模的该曝光光，在被转印体上形成线宽不足3μm 的转印图案，

所述半透光膜形成为透过所述半透光部的曝光光的相对于透过所述 透光部的曝光光的相位差为60度以下，

且所述液晶显示装置制造用光掩模包含由所述透光部和所述半透光 部构成的图案，且所述透光部或所述半透光部的至少一方具有不足3μm 的线宽的部分。

2.根据权利要求1所述的液晶显示装置制造用光掩模，其特征在于，

所述图案的所述透光部具有不足3μm的线宽的部分。

3.根据权利要求1所述的液晶显示装置制造用光掩模，其特征在于，

在设所述透明基板的曝光光的透过率为100％时，所述半透光膜的曝 光光的透过率为20％～60％的范围。

4.一种液晶显示装置制造用光掩模的制造方法，该光掩模具有透光部 和半透光部，通过图案形成在透明基板上形成的半透光膜而形成规定的图 案，该制造方法是在液晶显示装置制造用的曝光机的曝光条件下，利用使 用了365nm～436nm的波段的曝光光，并通过透过该光掩模的该曝光光， 在被转印体上形成线宽不足3μm的转印图案的光掩模的制造方法，

利用透过所述半透光部的曝光光的相对于透过所述透光部的曝光光 的相位差为60度以下的所述半透光膜，

形成在所述透光部或所述半透光部的至少一方包含不足3μm的线宽 的部分的、由所述透光部和所述半透光部构成的图案。

5.根据权利要求4所述的液晶显示装置制造用光掩模的制造方法，其 特征在于，

预先求取在规定的曝光条件下的在光掩模上具有不足3μm的线宽部 分的透光部或半透光部的线宽和在与其对应的在被转印体上形成的抗蚀 膜图案的线宽之间的相关关系，根据该相关关系，确定在所述光掩模形成 的透光部或半透光部的线宽，根据该确定的线宽尺寸，在光掩模上形成由 所述透光部和所述半透光部构成的图案。

6.一种图案转印方法，使用权利要求1到3的任意一项所记载的光掩 模，在液晶显示装置制造用的曝光机的曝光条件下，通过使用了365nm～ 436nm的波段的曝光光，在被转印体上进行曝光，转印线宽不足3μm的 图案。