[发明专利]用于氢气制造用过滤器的薄膜支持基板及氢气制造用过滤器制造方法无效
| 申请号: | 200810131734.8 | 申请日: | 2003-07-23 |
| 公开(公告)号: | CN101422704A | 公开(公告)日: | 2009-05-06 |
| 发明(设计)人: | 八木裕;前田高德;太田善纪;内田泰弘 | 申请(专利权)人: | 大日本印刷株式会社 |
| 主分类号: | B01D71/02 | 分类号: | B01D71/02 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 杨松龄 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 一种氢气制造用过滤器的制造方法,是使用薄膜支持基板的氢气制造用过滤器的制造方法,其特征是,薄膜支持基板包括:金属基板;在该金属基板的一个面上形成的多个柱状凸部;及在该柱状凸部的非形成部位以贯通金属基板的方式形成的多个贯通孔,并且,柱状凸部的非形成部位的面积占柱状凸部形成面侧面积的20%~90%的范围,氢气制造用过滤器的制造方法包括:在薄膜支持基板的形成柱状凸部的面的相反一侧的面上,配设绝缘性薄膜的配设工序;在薄膜支持基板的形成柱状凸部的面上形成镀铜层,将贯通孔的内部填补并覆盖柱状凸部的镀铜工序;把镀铜层平坦地除去,使柱状凸部的上端面露出,并与该上端面构成相同的同一平面的平坦化工序;通过电镀在柱状凸部的上端与镀铜层构成的平坦面上形成Pd合金膜的膜形成工序;及在除去绝缘性薄膜后,通过选择性蚀刻除去镀铜层的除去工序。因此,可制造出用于燃料电池的改性器的、可稳定地进行高纯度氢气气体的生产的氢气制造用过滤器。 | ||
| 搜索关键词: | 用于 氢气 制造 过滤器 薄膜 支持 方法 | ||
【主权项】:
1、一种氢气制造用过滤器的制造方法,是使用薄膜支持基板的氢气制造用过滤器的制造方法,其特征是,所述薄膜支持基板包括:金属基板;在该金属基板的一个面上形成的多个柱状凸部;及在该柱状凸部的非形成部位以贯通金属基板的方式形成的多个贯通孔,并且,柱状凸部的非形成部位的面积占柱状凸部形成面侧面积的20%~90%的范围,所述氢气制造用过滤器的制造方法包括:在所述薄膜支持基板的形成柱状凸部的面的相反一侧的面上,配设绝缘性薄膜的配设工序;在所述薄膜支持基板的形成柱状凸部的面上形成镀铜层,将所述贯通孔的内部填补并覆盖柱状凸部的镀铜工序;把所述镀铜层平坦地除去,使所述柱状凸部的上端面露出,并与该上端面构成相同的同一平面的平坦化工序;通过电镀在所述柱状凸部的上端与镀铜层构成的平坦面上形成Pd合金膜的膜形成工序;及在除去所述绝缘性薄膜后,通过选择性蚀刻除去镀铜层的除去工序。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大日本印刷株式会社,未经大日本印刷株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810131734.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。





