[发明专利]等离子体处理设备

摘要

本发明是有关于一种等离子体处理设备，其包含腔室、下电极、上电极以及衬底传感器。所述腔室经配置以提供反应空间。所述下电极设置在所述腔室中的下部区域处，以供在下电极上安装衬底。所述上电极设置在所述腔室中的上部区域处，并与所述下电极相对。所述衬底传感器提供于所述腔室上以感测所述衬底。在本申请中，所述上电极包含电极板和附接在所述电极板底部上的绝缘板，且至少一个导孔形成于所述上电极中，以引导从所述衬底传感器输出的光朝向所述衬底。

主权项

1.一种等离子体处理设备，其特征在于其包括：腔室，其经配置以提供反应空间；下电极，衬底被搁置于其上，所述下电极设置在所述腔室的下部区域处；上电极，其面向所述下电极，且设置在所述腔室的上部区域处；以及衬底传感器，其被提供在所述腔室的所述上部区域中，以感测所述衬底，其中所述的上电极包含电极板和附接在所述电极板的底部上的绝缘板，且至少一个导孔被形成在所述上电极中，以引导从所述衬底传感器输出的光朝向所述衬底。