[发明专利]一种高温碳化硅双室热壁式外延生长装置无效
申请号: | 200810113296.2 | 申请日: | 2008-05-28 |
公开(公告)号: | CN101591803A | 公开(公告)日: | 2009-12-02 |
发明(设计)人: | 孙国胜;王雷;赵万顺;曾一平;叶志仙;刘兴昉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | C30B25/02 | 分类号: | C30B25/02;C30B29/36 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汤保平 |
地址: | 100083北*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种高温碳化硅双室热壁式外延生长装置,包含:一密封操作箱为一矩形箱体,在密封操作箱的一背面开有两个圆孔,顶部有一个出气口,底部有一个进气口,正面有两个用于密封安装橡胶手套的操作口;两个三通过渡连接件的端口为法兰端口,该两个三通过渡连接件的一端分别与该密封操作箱上的两个圆孔连接;两个石英管的一端分别与两个三通过渡连接件的另一端水平连接;两个进气法兰盘分别与两个石英管的另一端连接;两个热壁石墨腔室分别位于两个石英管内部的中央处;两个加热器分别套置于两个石英管外部的中央处,与两个热壁石墨腔室对应;一工做台用于放置上述各部件;一真空样品交接室的一端与密封操作箱的一侧壁连接,其下端有一个排气孔,该排气孔与外部的抽真空系统连接;一进样门位于真空样品交接室与密封操作箱连接处内侧。 | ||
搜索关键词: | 一种 高温 碳化硅 双室热壁式 外延 生长 装置 | ||
【主权项】:
1.一种高温碳化硅双室热壁式外延生长装置,其特征在于,其包含有:一密封操作箱,该密封操作箱为一矩形箱体,在密封操作箱的一背面开有两个圆孔,该密封操作箱的顶部有一个出气口,底部有一个进气口,正面有两个用于密封安装橡胶手套的操作口,该密封操作箱用于隔离大气,进行生长衬底片和外延样品的交接与传递;两个三通过渡连接件,该两个三通过渡连接件的端口为法兰端口,该两个三通过渡连接件的一端分别与该密封操作箱上的两个圆孔连接;两个石英管,该两个石英管的一端分别与两个三通过渡连接件的另一端水平连接;两个进气法兰盘,分别与两个石英管的另一端连接;两个热壁石墨腔室,分别位于两个石英管内部的中央处;两个加热器,分别套置于两个石英管外部的中央处,与两个热壁石墨腔室对应;一工做台,用于放置上述各部件;一真空样品交接室,该真空样品交接室的一端与密封操作箱的一侧壁连接,该真空样品交接室的下端有一个排气孔,该排气孔与外部的抽真空系统连接;一进样门,位于真空样品交接室与密封操作箱连接处内侧。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院半导体研究所,未经中国科学院半导体研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810113296.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。