[发明专利]一种具有稳定阻变特性的材料及阻变存储器无效

专利信息
申请号: 200810105175.3 申请日: 2008-04-29
公开(公告)号: CN101281952A 公开(公告)日: 2008-10-08
发明(设计)人: 康晋锋;杨竞峰;刘力锋;孙兵;刘晓彦;王漪;韩汝琦;王阳元 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;H01L27/24;G11C11/56;G11C16/02
代理公司: 北京君尚知识产权代理事务所 代理人: 贾晓玲
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种具有稳定阻变特性的材料及阻变存储器,属于半导体非挥发性存储器技术领域。该材料为掺入+3价金属元素离子的HfO2、ZrO2或CeO2薄膜。阻变材料中HfO2、ZrO2和CeO2是晶格结构稳定,缺陷态较少的材料,Hf、Zr、Ce离子均呈+4价。在HfO2、ZrO2或CeO2中掺入+3价的金属元素离子,可以人为地引入缺陷。因此,通过使用掺入+3价金属元素离子的HfO2、ZrO2或CeO2薄膜作阻变层,人为地控制缺陷产生的浓度,可有效地提高阻变存储的稳定性和可控性。
搜索关键词: 一种 具有 稳定 特性 材料 存储器
【主权项】:
1、一种具有稳定阻变特性的材料,其特征在于,该材料为掺入+3价金属元素离子的HfO2、ZrO2或CeO2薄膜。
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