[发明专利]实现微波开关及其逻辑控制电路单片集成的制作方法有效
| 申请号: | 200810102206.X | 申请日: | 2008-03-19 |
| 公开(公告)号: | CN101540296A | 公开(公告)日: | 2009-09-23 |
| 发明(设计)人: | 黎明;张海英;徐静波;付晓君 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号: | H01L21/822 | 分类号: | H01L21/822 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 周国城 |
| 地址: | 100029*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 本发明涉及化合物半导体MMIC技术领域,公开一种采用GaAs增强/耗尽型PHEMT技术实现微波开关及其逻辑控制电路单片集成的制作方法,利用1.0μm GaAs E/D PHEMT工艺,制备出性能良好的DC~10GHz SPDT MMIC,将全耗尽型微波开关与反相器逻辑电路集成于同一芯片内,基本实现逻辑电路与开关电路的集成,整个电路只需要1位控制信号,有效的减少了开关电路的控制端口数目,节省了芯片面积。为将来采用E/D HEMT技术实现更大规模、更复杂电路集成奠定了良好基础。发明具有成效明显,工艺设计简单易行,经济适用和可靠性强的优点,容易在微波、毫米波化合物半导体电路制作中采用和推广。 | ||
| 搜索关键词: | 实现 微波 开关 及其 逻辑 控制电路 单片 集成 制作方法 | ||
【主权项】:
1、一种实现微波开关及其逻辑控制电路单片集成的制作方法,其特征在于,该方法包括:对GaAs基应变高电子迁移率晶体管外延片进行预处理;对源漏进行光刻,蒸发Ti/Pt/Au形成欧姆接触,实现源漏的制备;腐蚀InGaAs帽层,形成增强型栅极,实现栅极的制备;采用PECVD生长一层SiN介质,溅射NiCr合金制作电阻;刻孔,蒸发一次布线金属,再长介质SiN,再进行光刻二次布线Ti/Au;常规金属剥离形成金属图形。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





