[发明专利]实现微波开关及其逻辑控制电路单片集成的制作方法有效

专利信息
申请号: 200810102206.X 申请日: 2008-03-19
公开(公告)号: CN101540296A 公开(公告)日: 2009-09-23
发明(设计)人: 黎明;张海英;徐静波;付晓君 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L21/822 分类号: H01L21/822
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 周国城
地址: 100029*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及化合物半导体MMIC技术领域,公开一种采用GaAs增强/耗尽型PHEMT技术实现微波开关及其逻辑控制电路单片集成的制作方法,利用1.0μm GaAs E/D PHEMT工艺,制备出性能良好的DC~10GHz SPDT MMIC,将全耗尽型微波开关与反相器逻辑电路集成于同一芯片内,基本实现逻辑电路与开关电路的集成,整个电路只需要1位控制信号,有效的减少了开关电路的控制端口数目,节省了芯片面积。为将来采用E/D HEMT技术实现更大规模、更复杂电路集成奠定了良好基础。发明具有成效明显,工艺设计简单易行,经济适用和可靠性强的优点,容易在微波、毫米波化合物半导体电路制作中采用和推广。
搜索关键词: 实现 微波 开关 及其 逻辑 控制电路 单片 集成 制作方法
【主权项】:
1、一种实现微波开关及其逻辑控制电路单片集成的制作方法,其特征在于,该方法包括:对GaAs基应变高电子迁移率晶体管外延片进行预处理;对源漏进行光刻,蒸发Ti/Pt/Au形成欧姆接触,实现源漏的制备;腐蚀InGaAs帽层,形成增强型栅极,实现栅极的制备;采用PECVD生长一层SiN介质,溅射NiCr合金制作电阻;刻孔,蒸发一次布线金属,再长介质SiN,再进行光刻二次布线Ti/Au;常规金属剥离形成金属图形。
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