[发明专利]TFT-LCD阵列基板结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200810101545.6 申请日: 2008-03-07
公开(公告)号: CN101526707A 公开(公告)日: 2009-09-09
发明(设计)人: 王章涛;邱海军;闵泰烨 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;H01L27/12;H01L21/84;G03F7/00;G03F7/42
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 代理人: 刘 芳
地址: 100176北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种TFT-LCD阵列基板结构及其制造方法,制造方法为:在基板上沉积栅金属层,通过第一次构图工艺在显示区域形成栅电极和栅线,在栅线PAD区域形成栅连接线;连续沉积栅绝缘层、半导体层和掺杂半导体层,通过第二次构图工艺在显示区域的栅线和栅电极上形成栅绝缘层、半导体层和掺杂半导体层;沉积透明导电层,通过第三次构图工艺形成像素电极;连续沉积源漏金属层和钝化层,通过第四次构图工艺,在显示区域形成漏电极、源电极、数据线和TFT沟道,在数据线PAD区域形成数据连接线,使漏电极与像素电极搭接,在栅线PAD区域暴露出栅连接线,在数据线PAD区域暴露出数据连接线。本发明可有效地减少像素不良。
搜索关键词: tft lcd 阵列 板结 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种TFT-LCD阵列基板结构,包括在基板的显示区域形成的栅线和数据线,以及在基板的PAD区域形成的栅连接线和数据连接线,所述栅线和数据线的交叉处形成薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括栅电极、栅绝缘层、半导体层、掺杂半导体层、源电极、漏电极和钝化层,其特征在于,还包括位于所述漏电极下方且与所述漏电极搭接的像素电极,所述半导体层位于所述栅线和栅电极上方的绝缘层上。
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