[发明专利]擦除非易失性存储器元件时用于自我收敛的装置和方法有效
| 申请号: | 200810100701.7 | 申请日: | 2008-05-16 |
| 公开(公告)号: | CN101325180A | 公开(公告)日: | 2008-12-17 |
| 发明(设计)人: | 易成名;吴祝菁;陈辉煌 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/8247 | 分类号: | H01L21/8247;H01L21/336;H01L21/28;H01L27/115;H01L29/788;H01L29/423;G11C16/02 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 周国城 |
| 地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种在非易失性存储单元中用以修正一过度擦除状态的装置和方法,一非易失性存储器元件实现在正常擦除周期中的自我收敛,经由物理外观的控制,例如,在该栅极结构以及整个栅极结构中介电层的厚度、宽度、面积等。自我收敛也可以在正常擦除周期中通过在该擦除周期中急速增加施加至该控制栅极的擦除电压而更显著。 | ||
| 搜索关键词: | 擦除 非易失性存储器 元件 用于 自我 收敛 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于制造非易失性存储装置的方法,该存储装置包含有多个存储单元,且每一存储单元包含一电荷储存结构并具有一阈值电压,其特征在于,该方法包含:将该类存储单元中该电荷储存结构的一第一介电层的物理性尺寸选择成,当有一电压被施加于该存储单元时,一旦该阈值电压几近相同于一预定值,在该第一介电层的电流值实质上相同于一第二介电层中的电流值时的尺寸,该尺寸包括物理尺寸面积、厚度或长度;以及控制该非易失性存储装置的制造,以使该电荷储存结构中的该第一介电层具有所选定的尺寸。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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