[发明专利]钎焊x射线管靶的发射层无效
| 申请号： | 200810100339.3 | 申请日： | 2008-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN101290858A | 公开（公告）日： | 2008-10-22 |
| 发明（设计）人： | G·A·施泰因拉格;M·赫伯特 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | H01J35/08 | 分类号： | H01J35/08;H01J35/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 蒋骏;王小衡 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 钎焊x射线管靶的发射层。一种用于产生x射线的靶，包括：包含至少一层靶材料的靶衬底(84)、包含至少一层轨迹材料的轨迹(86)、通过高能量电子撞击到设定的轨迹上而产生x射线的该轨迹、以及将靶衬底(84)附着到该轨迹的钎焊接头(88)。 | ||
| 搜索关键词： | 钎焊 射线 发射 | ||
【主权项】：
1.一种用于产生x射线的靶，包括：包括至少一层靶材料的靶衬底(84)；包括至少一层轨迹材料的轨迹(86)，该轨迹被配置为通过高能量电子撞击到其上而产生x射线；以及钎焊接头(88)，将所述靶衬底(84)附着到所述轨迹(86)。
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