[发明专利]光学器件和曝光装置有效
| 申请号： | 200810094938.9 | 申请日： | 2008-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN101324685A | 公开（公告）日： | 2008-12-17 |
| 发明（设计）人： | 向井厚史;园田慎一郎 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B6/42 | 分类号： | G02B6/42 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 梁晓广;陆锦华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种能够抑制光输出衰减的光学器件和曝光装置。本发明的光学器件包括发射具有短波长(例如，160到500nm)的激光的激光光源、透镜、透明构件和设置有接合抑制膜的光纤。该光学器件被构造成使得透明构件与形成有接合抑制膜的光纤之间的邻接面的光密度为4464W/mm2或更小，由此抑制由熔融导致的光输出的衰减。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 器件 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光学器件，包括：光源，输出预定波长的光；第一光学构件，所述预定波长的光穿过该第一光学构件；和第二光学构件，紧靠所述第一光学构件，且所述预定波长的光穿过该第二光学构件；其中所述预定波长是从大约160nm到大约500nm，在所述第一光学构件与所述第二光学构件之间的邻接面上设置接合抑制膜，且所述邻接面中的光密度大约为4464W/mm2或更小。
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