[发明专利]真空灭弧室有效
| 申请号： | 200810087599.1 | 申请日： | 2008-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN101290846A | 公开（公告）日： | 2008-10-22 |
| 发明（设计）人： | 李在杰 | 申请（专利权）人： | LS产电株式会社 |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人： | 朱梅;徐志明 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明可以提供一种真空灭弧室，在环氧树脂被浇注的真空灭弧室中，通过提高环氧树脂和陶瓷真空灭弧室之间的粘合力，可使制造过程中减少产生断裂，并可使机械的耐冲击性以及部分放电特性得到改善。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 灭弧室 | ||
【主权项】：
1、一种真空灭弧室，其特征在于，包括，具备与外侧相连的上部导体以及下部导体的陶瓷绝缘外壳；在所述绝缘外壳的外表面成形的釉层；在所述釉层的外表面涂布硅烷偶联剂而形成的硅烷偶联剂层；在所述硅烷偶联剂层的外表面成形的环氧树脂绝缘层，所述硅烷偶联剂层与所述釉层以及所述环氧树脂绝缘层进行化学结合。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于LS产电株式会社，未经LS产电株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810087599.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
