[发明专利]用于光刻设备的照射器和光刻方法有效
| 申请号： | 200810083467.1 | 申请日： | 2008-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN101266413A | 公开（公告）日： | 2008-09-17 |
| 发明（设计）人： | 迈克尔·弗朗索斯·休伯特·克拉森;亨瑞克斯·罗伯塔斯·玛丽·范格瑞温布奥克;伯恩德·皮特·杰;埃米尔·皮特·斯克米特－威沃 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;卡尔蔡斯SMT股份公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/00;G02B27/28 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于光刻设备的照射器以及一种光刻方法。所述照射器包括照射方式限定元件和多个偏振调节器，所述偏振调节器是可移入或移出与辐射束的一些部分相交的位置，所述辐射束具有由照射方式限定元件支配的角度分布和空间分布。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 设备 照射 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于光刻设备的照射器，所述照射器包括照射方式限定元件和多个偏振调节器，所述偏振调节器是能够移入或移出与辐射束的一部分相交的位置，所述辐射束具有由照射方式限定元件支配的角度分布和空间分布。
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