[发明专利]用于光刻设备的照射器和光刻方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于光刻设备的照射器和光刻方法。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版(reticle)的图案形成装置用于生成对应于IC的单层的电路图案。可以将该图案成像到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯的部分)上，所述衬底具有辐射敏感材料(抗蚀剂)层。通常，单独的衬底将包含被连续曝光的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过沿给定方向(“扫描”方向)的辐射束扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。

光刻设备采用辐射束将图案从图案形成装置投影到衬底上。辐射束的属性可以被光刻设备控制。例如，可以依赖于将被投影到衬底上的图案的类型，对辐射束的属性进行调整。

需要提供一种允许修改辐射束的偏振的新设备和方法。

发明内容

根据本发明的实施例，提供一种用于光刻设备的照射器，所述照射器包括照射方式限定元件和多个偏振调节器，所述偏振调节器是可移动的，以使得它们可以被移入或移出与辐射束的部分相交位置，所述辐射束具有由照射方式限定元件支配的角度分布和空间分布。

根据本发明的实施例，提供一种光刻设备，所述光刻设备包括：照射器，所述照射器被配置用于提供辐射束；支撑结构，所述支撑结构配置用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置用于将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束；衬底台，所述衬底台被配置用于保持衬底；以及投影系统，所述投影系统配置用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上，其中所述照射器包括照射方式限定元件和多个偏振调节器，所述偏振调节器是可移动的，以使得它们可以被移入或移出与辐射束部分相交的位置，所述辐射束具有由照射方式限定元件支配的角度分布和空间分布。

根据本发明的实施例，提供一种光刻方法，所述光刻方法包括：提供衬底；提供辐射束；采用照射方式限定元件调节辐射束的角度分布；采用多个偏振调节器调节辐射束的一个或多个部分的偏振，所述偏振调节器根据需要被移入和移出与辐射束的一部分相交的位置；采用图案形成装置将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束；以及将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。

在本发明的实施例中，提供一种器件制造方法，所述器件制造方法包括：调整辐射束；采用照射方式限定元件调节辐射束的角度分布；采用多个偏振调节器调节辐射束的一个或多个部分的偏振，所述偏振调节器可以移入和移出与辐射束的一部分相交的位置；将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束，以形成图案化的辐射束；以及将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。

附图说明

在此仅借助示例，参照所附示意图对本发明的实施例进行描述，在所附示意图中，相同的附图标记表示相同的部分，且其中：

图1示出根据本发明的实施例的光刻设备；

图2是图1的光刻设备的一部分的示意图；

图3和图5是形成图1的光刻设备的一部分的可移动偏振调整器的示意图；

图4和图6a-b示意性地示出根据本发明的实施例的偏振效果。

具体实施方式

尽管在本文中可以做出具体的参考，将所述光刻设备用于制造IC，但应当理解这里所述的光刻设备可以有其他的应用，例如，集成光学系统、磁畴存储器的引导和检测图案、液晶显示器、薄膜磁头的制造等。对于普通的技术人员，应该理解的是，在这种可替代的应用的上下文中，可以将其中使用的任意术语“晶片”或“管芯”分别认为是与更上位的术语“衬底”或“目标部分”同义。这里所指的衬底可以在曝光之前或之后进行处理，例如在轨道(一种典型地将抗蚀剂层涂到衬底上，并且对已曝光的抗蚀剂进行显影的工具)、度量工具或检验工具中。在可应用的情况下，可以将所述公开应用于这种和其他衬底处理工具中。另外，所述衬底可以处理一次以上，例如为产生多层IC，使得这里使用的所述术语衬底也可以表示已经包含多个已处理层的衬底。

这里使用的术语“辐射”和“束”包含全部类型的电磁辐射，包括：紫外(UV)辐射(例如具有约365、248、193、157或126nm的波长)和极紫外(EUV)辐射(例如具有5-20nm范围内的波长)，以及粒子束，例如离子束或电子束。