[发明专利]曝光装置以及器件制造方法有效
| 申请号： | 200810082277.8 | 申请日： | 2003-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN101241317A | 公开（公告）日： | 2008-08-13 |
| 发明（设计）人： | 马込伸贵 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 曲瑞 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种在将液体充满于投影光学系统与基片之间来进行曝光之际，能够抑制起因于附着于基片的液体的器件的劣化的曝光装置。器件制造系统(SYS)具备：在投影光学系统(PL)与基片(P)之间用液体(50)充满，经由投影光学系统(PL)和液体(50)将图案像投影到基片(P)上的曝光装置本体(EX)；曝光装置本体(EX)与进行基片(P)曝光后的处理的涂敷器·显影器本体(C/D)的接口部(IF)；以及在基片(P)曝光后、经由接口部(IF)将基片(P)搬出至涂敷器·显影器本体(C/D)之前，除去附着于基片(P)的液体(50)的液体除去装置(100)。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于通过经由液体将图案像投影到基片上而被曝光的基片的液体除去装置，具备：保持上述被曝光的基片的保持部；以及在对上述被曝光的基片进行显影处理之前，除去向上述被曝光的基片供给的洗净液的液体除去机构。
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