[发明专利]曝光装置以及器件制造方法有效
| 申请号： | 200810082277.8 | 申请日： | 2003-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN101241317A | 公开（公告）日： | 2008-08-13 |
| 发明（设计）人： | 马込伸贵 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 曲瑞 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 以及 器件 制造 方法 | ||
1.一种用于通过经由液体将图案像投影到基片上而被曝光的基片的液体除去装置，具备：
保持上述被曝光的基片的保持部；以及
在对上述被曝光的基片进行显影处理之前，除去向上述被曝光的基片供给的洗净液的液体除去机构。
2.按照权利要求1所述的液体除去装置，其特征在于，还具备：
包围由上述保持部保持的上述基片的盖壳。
3.按照权利要求2所述的液体除去装置，其特征在于，还具备：
将基片搬送到上述保持部的搬送装置。
4.按照权利要求2所述的液体除去装置，其特征在于，上述盖壳包括腔室，
在上述腔室内从上述被曝光的基片上除去上述洗净液。
5.按照权利要求4所述的液体除去装置，其特征在于，向上述被曝光的基片供给上述洗净液是在上述腔室内进行的。
6.按照权利要求1～5中的任意一项所述的液体除去装置，其特征在于，上述液体除去机构吸入上述基片上的洗净液。
7.按照权利要求1～5中的任意一项所述的液体除去装置，其特征在于，上述液体除去机构是使用干燥空气来进行的。
8.按照权利要求1～5中的任意一项所述的液体除去装置，其特征在于，上述液体除去机构散去上述基片上的洗净液。
9.按照权利要求8所述的液体除去装置，其特征在于，上述液体除去机构使上述基片进行旋转。
10.按照权利要求8所述的液体除去装置，其特征在于，上述液体除去机构吹去上述基片上的洗净液。
11.按照权利要求1～5中的任意一项所述的液体除去装置，其特征在于，上述液体除去机构使上述基片倾斜。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社尼康，未经株式会社尼康许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810082277.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种智能绝缘子检测机器人
- 下一篇：一种太阳能节能环保电力设备检测仪
