[发明专利]厚度调节混合制作多级微反射镜的方法

摘要

本发明涉及一种厚度调节混合制作多级微反射镜的方法，包括如下步骤：制作n个基片并对其进行清洗处理；将基片并分成N组基片单元，然后研磨、抛光四个侧面；第一组基片单元上下侧表面之间的高度为H，依此类推，第N组基片单元上下侧表面之间的高度为H+(N－1)nh/N；分别在各基片的上侧表面沉积不同厚度的薄膜材料；将各基片依次紧密排列置于抛光平板上并固定在一起；在阶梯结构上表面沉积增反膜层。本发明不仅水平精度高，阶梯的垂直高度还可以在较大的范围内调节，纵向尺寸精度高；并且制作过程不用化学腐蚀，减少了污染。

主权项

1、一种厚度调节混合制作多级微反射镜的方法，其特征在于包括如下步骤：(一)、选取硅、玻璃、二氧化硅、石英、碳化硅、钼片、铝片或石英片作为基片，并对其进行清洗处理；(二)、设定多级微反射镜总级数为n，将n片基片双面抛光，并分成N组；分别将每个组的1～n/N个基片叠在一起固定，形成N组基片单元，然后分别对N组基片单元整体研磨、抛光四个侧面，使侧面粗糙度达到0.2nm～1μm；第一组基片单元上下侧表面之间的高度为H，第二组基片单元上下侧表面之间的高度为H+nh/N，第三组基片单元上下侧表面之间的高度为H+2nh/N，依此类推，第N组基片单元上下侧表面之间的高度为H+(N-1)nh/N；(三)、分别在各基片的上侧表面沉积薄膜材料，在第1、n/N+1、2n/N+1、3n/N+1……基片上侧表面沉积厚度为h的薄膜，在第2、n/N+2、2n/N+2、3n/N+2、……基片上侧表面沉积厚度为2h的薄膜，在第3、n/N+3、2n/N+3、3n/N+3、……基片上侧表面沉积厚度为3h的薄膜，在第4、n/N+4、2n/N+4、3n/N+4、……基片上侧表面沉积厚度为4h的薄膜，依此类推；(四)、将上侧表面沉积薄膜的各基片按上下侧表面之间的高度依次紧密排列置于一块高平面度的抛光平板上并固定在一起，形成多级阶梯结构；(五)、在多级阶梯结构上表面沉积增反膜层。