[发明专利]含硅氨链结构的正性光敏聚酰亚胺及其制备方法无效
| 申请号： | 200810046079.6 | 申请日： | 2008-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN101362822A | 公开（公告）日： | 2009-02-11 |
| 发明（设计）人： | 王涛;唐先忠;蒋亚东;袁凯;王军 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | C08G73/10 | 分类号： | C08G73/10;G03F7/039 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610054四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 含硅氨链结构的正性光敏聚酰亚胺及其制备方法，属于材料技术领域，涉及高耐热感光功能高分子材料及制备方法。本发明提供的含硅氨链结构的正性光敏聚酰亚胺，是一种主体材料由不同聚合度侧链含光敏基团的聚酰胺酸构成的有机纤维状聚合物材料。利用四羧酸二酐和二胺为原料，经有机溶剂溶解、室温搅拌反应的反应物经过滤、洗涤、干燥得聚酰胺酸；然后将聚酰胺酸及氯硅烷氨基邻重氮萘醌溶解在有机溶剂中室温搅拌反应的反应物经过滤、洗涤、干燥即得本发明所述的含硅氨链结构的正性光敏聚酰亚胺。本发明提供的含硅氨链结构的正性光敏聚酰亚胺附着力强、成膜性好、分辨率高、耐热。本发明可用于光学器件、光电子器件、微电子器件等器件的光刻工艺中。 | ||
| 搜索关键词： | 含硅氨 链结 光敏 聚酰亚胺 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.含硅氨链结构的正性光敏聚酰亚胺，是一种主体材料由不同聚合度侧链含光敏基团的聚酰胺酸构成的有机纤维状聚合物材料，所述光敏聚酰亚胺的结构式为：![]()
其中n≥10；R1为H、CH3、C2H5、C3H7或C6H5；R2为H、CH3、C2H5、C3H7或C6H5；Ar1为![]()
![]()
或![]()
Ar2为![]()
或![]()
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