[发明专利]检验方法和设备、光刻设备、光刻处理单元和器件制造方法无效
| 申请号： | 200810009099.6 | 申请日： | 2008-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN101510051A | 公开（公告）日： | 2009-08-19 |
| 发明（设计）人： | 阿瑞·杰弗里·单勃拂;斯特尼斯拉伍·Y·斯米尼挪伍;安戴尔·琼比尤尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种散射仪具有能够发射在不同的第一和第二波长范围内的辐射的辐射源。一种可调整光学元件设置用于根据所使用的波长范围的需要实现色差修正。一种单散射仪可以由此采用宽间隔的波长实现测量。 | ||
| 搜索关键词： | 检验 方法 设备 光刻 处理 单元 器件 制造 | ||
【主权项】：
1. 一种检验设备，所述检验设备配置用于确定与通过用于在衬底上制造器件层的光刻工艺被印制在衬底上的目标图案的参数相关的值，所述设备包括：辐射源，设置用于有选择地发射具有在第一波长范围中的第一波长的第一辐射束，或者具有在第二波长范围中的第二波长的第二辐射束，所述第二波长范围不同于所述第一波长范围；光学系统，设置用于将第一或第二辐射束中的被选出的一个引导到目标图案上，并将被目标图案变向的辐射投影到检测器上以获得散射仪光谱或散射测量的光谱；以及可调整的光学元件，设置用于有选择地根据辐射源发射第一辐射束还是第二辐射束，来实现光学系统的色差修正。
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