[发明专利]检验方法和设备、光刻设备、光刻处理单元和器件制造方法

权利要求书

1.一种检验设备，所述检验设备配置用于确定被印制在衬底上的目标 图案的参数相关的值，所述设备包括：

辐射源，设置用于有选择地发射具有在第一波长范围中的第一波长的 第一辐射束，或者具有在第二波长范围中的第二波长的第二辐射束，所述 第二波长范围不同于所述第一波长范围；

光学系统，设置用于将第一或第二辐射束中的被选出的一个引导到目 标图案上，并将被目标图案变向的辐射投影到检测器上以获得散射仪光谱 或散射测量的光谱，所述目标图案的散射测量数据被用于重建所述目标图 案；以及

可调整的光学元件，设置用于有选择地根据辐射源发射第一辐射束还 是第二辐射束，来实现光学系统的色差修正。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一波长范围是5至300nm。

3.根据权利要求1所述的设备，其中所述第二波长范围是400至800nm。

4.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一辐射束包括多个分量或 成分，其中每个分量或成分具有在第一波长范围中的各自的波长。

5.根据权利要求1所述的设备，其中所述第二辐射束包括多个分量或 成分，其中每个分量或成分具有在第二波长范围中的各自的波长。

6.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一辐射束是宽带辐射束， 所述宽带辐射束包括在第一波长范围内的一定范围的波长。

7.根据权利要求1所述的设备，其中所述第二辐射束是宽带辐射束， 所述宽带辐射束包括在第二波长范围内的一定范围的波长。

8.根据权利要求1所述的设备，其中所述可调整光学元件包括可变形 反射镜。

9.根据权利要求1所述的设备，其中所述可调整光学元件包括可调整 折射透镜元件。

10.根据权利要求1所述的设备，其中所述光学系统包括照射支路和 检测支路，所述照射支路设置用于将第一或第二辐射束中所选择出的一个 引导到目标图案上，而所述检测支路设置用于将被所述目标图案变向的辐 射投影到检测器上，以获得散射仪光谱或散射测量的光谱，其中所述可调 整的光学元件被设置在照射支路中。

11.根据权利要求1所述的设备，其中所述光学系统包括照射支路和检 测支路，所述照射支路设置用于将第一或第二辐射束中所选择出的一个引 导到目标图案上，而所述检测支路设置用于将被所述目标图案变向的辐射 投影到检测器上，以获得散射仪光谱或散射测量的光谱，其中所述可调整 的光学元件被设置在检测支路中。

12.根据权利要求1所述的设备，其中所述光学系统包括物镜系统， 且可调整光学元件被设置在物镜系统中。

13.根据权利要求1所述的设备，其中所述可调整光学元件包括可在 光学系统中有选择地定位的多个物镜单元。

14.一种光刻设备，包括：

照射光学系统，设置用于照射图案；

投影光学系统，设置用于将所述图案的图像投影到衬底上；以及

检验设备，所述检验设备配置用于确定被印制在衬底上的目标图案的 参数相关的值，所述检验设备包括：

光学系统，设置用于将具有在第一波长范围中的第一波长的第一辐射 束，或者具有在第二波长范围中的第二波长的第二辐射束引导到目标图案 上，并将被所述目标图案变向的辐射投影到检测器上以获得散射仪光谱或 散射测量的光谱，所述目标图案的散射测量数据被用于重建所述目标图案， 所述第二波长范围不同于所述第一波长范围，以及

可调整的光学元件，设置用于有选择地根据第一辐射束还是第二辐射 束被光学系统引导，来实现所述光学系统的色差修正。