[发明专利]光学膜的制造方法无效
| 申请号： | 200810008517.X | 申请日： | 2008-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN101246284A | 公开（公告）日： | 2008-08-20 |
| 发明（设计）人： | 村田洁 | 申请（专利权）人： | 新日本石油株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈昕 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的课题是提供在研磨后的取向膜上形成的双折射层的微小取向不良、伤痕及放电痕迹等缺陷少、质量优良的光学膜的制造方法，以及液晶取向不良得到降低的取向膜材料。本发明的光学膜制造方法的特征在于，包括在基材上形成取向膜的工序、对形成的取向膜进行研磨处理的工序、然后在研磨处理了的取向膜上形成双折射层的工序，其中，上述取向膜的离子性杂质量为2000质量ppm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、光学膜的制造方法，其特征在于，包括在基材上形成取向膜的工序、对形成的取向膜进行研磨处理的工序、然后在研磨处理后的取向膜上形成双折射层的工序，其中，上述取向膜的离子性杂质量为2000质量ppm以下。
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