[发明专利]光学膜的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及可用于液晶显示器领域、光学领域、光电子学领域等的光学膜及其制造方法。

背景技术

以液晶物质作为膜材料的液晶性膜可用作液晶显示器等中的光学膜，但是伴随着显示器的高精细化，对液晶性膜所要求的质量标准近年来越来越严格。

作为液晶性膜的制造方法，有在取向基板上形成液晶物质的薄膜，进行液晶取向及固定取向的方法。作为该取向基板，通常使用经过研磨(rubbing)处理了的基板。研磨处理是使缠绕了布(研磨布)的辊子进行旋转，对行走的基板上面进行摩擦来进行的。例如，专利文献1及2中公开了对形成了取向膜的基板进行研磨处理而使用的方法，另外，例如专利文献3中公开了对塑料膜进行直接研磨，作为取向基板膜使用的方法。使用取向膜的方法在质量方面是有利的，而另一面却存在着取向膜的形成要花费成本、工序增加的问题。在这一点上，不使用取向膜的方法在成本上、生产率上是有利的。

构成所使用的取向基板的塑料膜或塑料片及取向膜表面的状态对液晶的取向有很大影响。其原因在于表面的微小突起和基板表面的微量杂质导致取向约束力变化，引起取向异常，使取向不良。作为强化取向约束力的方法，已提出了进行强力研磨的方法，但是研磨会带来尘埃增加和被研磨面出现伤痕，产生的缺陷增加。为了抑制尘埃产生及伤痕，期望提高取向膜材料的硬度。另一方面，杂质也可能从制造工序中混入，还要求降低从取向膜材料制造过程所伴有的杂质量，减少取向异常。

被用作涂布于基板上的取向膜的有机材料，已知的是例如聚乙烯醇(PVA)、聚酰亚胺等，已报导了许多改进方案。

例如，对于PVA，已知有通过皂化度和化学改性来控制液晶的取向性的方法(例如，参见专利文献4、5及6)。

但是目前的情况是，虽然对于液晶中含有的离子性杂质的量及其去除已做了各种研究，但是对于据推测为对液晶取向造成影响的取向膜中所含的离子性杂质还不怎么受到关注。

专利文献1：特开平08-152515号公报

专利文献2：特开平08-160429号公报

专利文献3：特开平06-242316号公报

专利文献4：特开昭62-183431号公报

专利文献5：特开平08-338913号公报

专利文献6：特开2002-062427号公报

发明内容

本发明的课题是提供光学膜及其制造方法，其中，通过使用杂质量得到降低的取向膜材料，在研磨了的取向膜上形成的双折射层的微小取向不良、伤痕及放电痕迹等缺陷少，质量优良。

本发明的第1项内容是光学膜的制造方法，其特征在于，包括在基材上形成取向膜的工序、对形成的取向膜进行研磨处理的工序、然后在研磨处理了的取向膜上形成双折射层的工序，其中，上述取向膜的离子性杂质量为2000质量ppm以下。

本发明的第2项内容是本发明的第1项内容所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述离子性杂质是钠离子。

本发明的第3项内容是本发明的第2项内容所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述钠离子来源于醋酸钠。

本发明的第4项内容是本发明的第1项内容所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述取向膜是聚乙烯醇。

本发明的第5项内容是本发明的第4项内容所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述聚乙烯醇的皂化度为98％以上。

本发明的第6项内容是本发明的第1项内容所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述基材为塑料膜。

本发明的第7项内容是本发明的第1项内容所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述双折射层是由含有液晶性化合物的材料形成的。

本发明的第8项内容是采用本发明的第1～7项内容中的任一项所述的光学膜的制造方法制造的光学膜。

本发明的第9项内容是使用了本发明的第8项内容所述的光学膜的液晶显示元件。

根据本发明，可以抑制取向膜上产生的缺陷，这些缺陷是在研磨了的取向膜上形成的双折射层上出现取向不良及伤痕的原因，因此在所得到的光学膜上取向不良、伤痕、膜厚异常等缺陷少，可以得到具有优异的光学质量的制品。

附图说明

[图1]是对于长膜状的取向基板，相对其MD以任意角度进行研磨的装置平面图。

[图2]是由实施例1得到的光学膜的偏光显微镜照片。

[图3]是由比较例3得到的光学膜的偏光显微镜照片。

符号说明

10研磨辊

11输送取向基板的平台

12作为取向基板的长膜

具体实施方式