[发明专利]利用双料射出技术制作背光模块的方法及背光模块有效

专利信息
申请号: 200810000082.4 申请日: 2008-01-03
公开(公告)号: CN101186098A 公开(公告)日: 2008-05-28
发明(设计)人: 傅世泽;李重德;郑川河;蔡贤龙 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: B29C45/10 分类号: B29C45/10;B29C45/78;G02F1/13357
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 梁挥;祁建国
地址: 台湾*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种背光模块及其制作方法,其利用双料射出技术依序射出由第一材料构成的框架与由第二材料构成的缓冲垫,并于射出过程中使部分第一材料与部分第二材料熔融并混合而形成一熔融层,借此使成型的缓冲垫与框架可紧密结合。
搜索关键词: 利用 双料 射出 技术 制作 背光 模块 方法
【主权项】:
1.一种制作背光模块的方法,其特征在于,包括:提供一模具,该模具具有一第一模穴与一可动构件,通过移动该可动构件可使该模具形成一与该第一模穴连通的第二模穴;进行一第一射出工艺,于该第一模穴内射出一第一材料,以形成一框架,其中该框架包括一垂直侧壁及一自该垂直侧壁水平向内延伸的横向平台,且该横向平台包括一对应该可动构件的凹口;以及移动该模具的该可动构件使该第二模穴形成,并进行一第二射出工艺,于该第二模穴内射出一第二材料,以于该框架的该横向平台上形成一缓冲垫,其中于该第二射出工艺中,部分该第一材料与部分该第二材料呈熔融态并彼此混合,借此于冷却后该缓冲垫与该框架可紧密结合。
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