[发明专利]抗蚀剂下层膜形成用组合物及图案形成方法无效
| 申请号： | 200780046971.8 | 申请日： | 2007-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN101563652A | 公开（公告）日： | 2009-10-21 |
| 发明（设计）人： | 能村仲笃;今野洋助 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 左嘉勋;刘继富 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及抗蚀剂下层膜形成用组合物，含有在富勒烯骨架中至少键合有一个氨基的(A)氨基化富勒烯和(B)溶剂，蚀刻耐性优异，且在干蚀刻工艺中下层膜图案难以折曲，可以将抗蚀剂图案忠实地、再现性良好地转印在被加工基板上。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 下层 形成 组合 图案 方法 | ||
【主权项】：
1、一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其特征在于，含有在富勒烯骨架中至少键合有一个氨基的(A)氨基化富勒烯和(B)溶剂。
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