[发明专利]等离子体处理装置的元件有效
| 申请号： | 200780046532.7 | 申请日： | 2007-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN101578926A | 公开（公告）日： | 2009-11-11 |
| 发明（设计）人： | 安瑟埃·德拉莱拉;沙鲁巴·J·乌拉尔 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | H05H1/34 | 分类号： | H05H1/34 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 吴贵明 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供一种等离子体处理装置的元件，该元件包括适于调节在热循环过程中产生的应力的加固构件。该加固构件包括可偏斜垫片以调节由热膨胀系数的差异产生的力，同时使多余的微粒污染物的产生最小化。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 元件 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体处理装置的元件，包含：第一构件，具有第一热膨胀系数并包括多个具有第一部分和比该第一部分宽的第二部分的通孔，该第二部分由至少一个承载面部分限定；多个第一加固构件，具有第二膨胀系数并设置于该第一构件的该孔内，该第一加固构件包括承载面；至少一个可偏斜垫片，设置于限定该孔的该第二部分的该承载面和该第一加固构件的该承载面之间；以及第二加固构件，啮合于各第一加固构件以将该第一构件以预先确定的夹持力固定于该第二构件，该至少一个可偏斜垫片适于调节在室温和升高的处理温度之间的热循环过程中产生的力。
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