[发明专利]等离子体处理装置的元件

权利要求书

1.一种等离子体处理装置的元件，包含：

第一构件，具有第一热膨胀系数并包括多个具有第一部 分和比该第一部分宽的第二部分的通孔，该第二部分由至少一 个承载面部分限定；

多个第一加固构件，具有第二膨胀系数并设置于该第一 构件的该通孔内，该第一加固构件包括一承载面；

至少一个可偏斜垫片，设置在该第一构件的一个所述通 孔的第二部分内，并位于所述的部分限定所述通孔的第二部分 的承载面和所述第一加固构件的承载面之间，其中该至少一个 可偏斜垫片在室温下不是完全平坦的；

支撑构件，具有凹槽，并具有一热膨胀系数；

第二加固构件，啮合于各第一加固构件，并且固定于或 者嵌入该支撑构件的凹槽内，以将该第一构件以预先确定的夹 持力固定于该支撑构件；

其中该第二加固构件是独立且分立的元件；以及

其中该至少一个可偏斜垫片适于在升高的处理温度下被 压缩，从而由此调节在室温和该升高的处理温度之间的热循环 过程中产生的力，该至少一个可偏斜垫片被配置成使得偏斜该 可偏斜垫片所需要的力小于使所述第一加固构件或者所述第 一构件的部分限定所述第二部分的承载面变形所需要的力。

2.根据权利要求1所述的元件，其中该至少一个可偏斜垫片适于 减少该热循环过程中来自该第一构件或者该第一加固构件的 微粒的产生。

3.根据权利要求1所述的元件，其中该至少一个可偏斜垫片是在 同一个孔内的一个或多个碟片弹簧。

4.根据权利要求3所述的元件，进一步包含设置于各可偏斜垫片 和该第一构件的承载面之间的平垫圈。

5.根据权利要求1所述的元件，其中各该第一加固构件包含外螺 纹，且各该第二加固构件包含螺纹护套，其具有与相应的第一 加固构件的外螺纹啮合的内螺纹。

6.根据权利要求1所述的元件，其中该第一热膨胀系数大于该第 二热膨胀系数。

7.根据权利要求1所述的元件，其中该第一热膨胀系数等于该第 二热膨胀系数。

8.根据权利要求1所述的元件，其中该第一构件是热控制板。

9.根据权利要求8所述的元件，其中该热控制板是由铝或铝合金 材料构成的。

10.根据权利要求1所述的元件，其中该支撑构件包含支撑板和围 绕该支撑板的外周延伸的支撑环。

11.根据权利要求1所述的元件，其中该支撑构件是由铝或石墨构 成的。

12.根据权利要求1所述的元件，进一步包含固定于该支撑构件的 上电极。

13.根据权利要求12所述的元件，其中该上电极包含内部硅电极 和外部硅电极。

14.一种等离子体处理装置的元件，包含：

第一构件，具有第一热膨胀系数；

第二构件，包括多个具有第一部分和比该第一部分宽的 第二部分的通孔，该第二部分由至少一个承载面部分限定；

多个第一加固构件，具有第二热膨胀系数并设置于该第 二构件的该通孔内，各该第一加固构件包括承载面；

至少一个可偏斜垫片，设置在该通孔的该第二部分内， 位于该通孔的该承载面和该第一加固构件的该承载面之间，其 中该至少一个可偏斜垫片在室温下不是完全平坦的；以及

第二加固构件，啮合于各第一加固构件以将该第一构件 以预先确定的夹持力固定于该第二构件；

其中该第二加固构件是独立且分立的元件；以及

其中该至少一个可偏斜垫片适于在升高的处理温度下被 压缩，从而由此调节在室温和该升高的处理温度之间的热循环 过程中产生的力，该至少一个可偏斜垫片被如此配置，从而使 偏斜该可偏斜垫片所需要的力小于使所述第一加固构件或者 所述第一构件的部分限定所述第二部分的承载面变形所需要 的力。