[发明专利]辐射系统和光刻设备无效
| 申请号： | 200780046330.2 | 申请日： | 2007-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN101584255A | 公开（公告）日： | 2009-11-18 |
| 发明（设计）人： | M·M·J·W·范赫彭;V·Y·班尼恩;V·V·伊凡诺夫;K·N·科什烈夫;D·J·W·科伦德尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于产生电磁辐射的辐射系统。所述辐射系统包括构造并配置成产生第一物质的等离子体和等离子体内的箍缩(10)的一对电极(5)。辐射系统还包括配置接近所述箍缩并构造成中和多个等离子体颗粒的等离子体复合表面(13)。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 系统 光刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于产生电磁辐射的辐射系统，所述辐射系统包括：一对电极，所述一对电极构造并配置成产生第一物质的等离子体和在所述等离子体内的箍缩；和等离子体复合表面，其配置接近所述箍缩，所述等离子体复合表面构造并配置成中和多个等离子体颗粒。
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