[发明专利]辐射系统和光刻设备

权利要求书

1.一种用于产生电磁辐射的辐射系统，所述辐射系统包括：

一对电极，所述一对电极构造并配置成产生第一物质的等离子体和 在所述等离子体内的箍缩；和

等离子体复合表面，其配置接近所述箍缩，所述等离子体复合表面 构造并配置成中和多个等离子体颗粒，其中，所述等离子体复合表面配置 用于实现穿过所述等离子体的移动。

2.如权利要求1所述的辐射系统，其中，所述移动是直线的方式或 弹道轨迹的方式。

3.如权利要求1所述的辐射系统，其中，所述等离子体复合表面由 包括第二物质的固体或流体限定。

4.如权利要求3所述的辐射系统，其中，所述等离子体复合表面是 流体喷射流。

5.如权利要求4所述的辐射系统，其中，所述流体喷射流包括一液 滴系列。

6.如权利要求5所述的辐射系统，其中，所述流体喷射流包括彼此 基本上平行并邻近地配置的一个或更多个液滴系列。

7.如权利要求6所述的辐射系统，其中，所述流体喷射流包括两个 或更多个液滴系列，所述液滴系列构造成使得来自邻近系列的液滴的位置 相对于彼此沿移动方向偏移。

8.如权利要求3所述的辐射系统，其中，固体或流体构建并配置成 使得其在使用时穿过所述等离子体的移动期间将蒸发。

9.如权利要求8所述的辐射系统，其中，所述第二物质选自由水、 氮、氩、氦和它们的任意组合构成的组。

10.如权利要求3所述的辐射系统，其中，所述第二物质与所述第一 物质相同。

11.如权利要求3所述的辐射系统，其中，所述第二物质选自由锡、 锡化合物、镓、铟、镓-铟-锡和它们的任意组合构成的组。

12.如权利要求11所述的辐射系统，其中锡是熔融的锡。

13.如权利要求3所述的辐射系统，其中，所述第二物质是导电的， 并且所述辐射系统配置成在使用时将所述等离子体复合表面保持地电位。

14.如权利要求1所述的辐射系统，其中，所述等离子体复合表面相 对地设置并大体上平行于所述电极的纵轴线，所述表面还被构造并配置成 形成碎片捕获遮蔽件。

15.如权利要求1所述的辐射系统，其中，所述箍缩和所述等离子体 复合表面之间的所述径向距离在20mm到50mm的范围内。

16.如权利要求1所述的辐射系统，其中，所述系统包括多个相对于 所述箍缩沿径向方向配置的等离子体复合表面。

17.如权利要求1所述的辐射系统，其中，所述电磁辐射形成限定光 学轴线的束，并且其中所述等离子体复合表面被包含在碎片捕获遮蔽件内 用于捕获来自所述电极的碎片，所述碎片捕获遮蔽件构造成将所述电极与 相对于所述光学轴线以预定球面角提供的光的路线遮蔽分开，并且在所述 光的路线中所述电极之间的中心区域提供孔。

18.一种用于产生电磁辐射的辐射系统，所述辐射系统包括：

一对电极，所述一对电极构造并配置成产生第一物质的等离子体和 在所述等离子体内的箍缩；

等离子体复合轮廓线，其部分由所述电极的表面限定，在所述复合 轮廓线处基本上由所述第一物质产生的所有等离子体被中和；和

等离子体复合表面，其构造并配置成中和多个等离子体颗粒，所述 等离子体复合表面设置在穿过所述箍缩的径向轴线上的点处，其中所述点 被设置在所述箍缩和所述径向轴线与所述等离子体复合轮廓线之间的交 叉点之间，其中，所述等离子体复合表面配置用于实现穿过所述等离子体 的移动。

19.如权利要求18所述的辐射系统，其中，所述辐射系统还包括构 造并配置成收集由所述箍缩发射的辐射的一个或更多个光学元件，其中所 述光学元件的表面还限定所述等离子体复合轮廓线。