[发明专利]测量玻璃板中畸变的量规

摘要

公开了一种用于测量一个或多个平面基板中畸变和或尺寸变化的坐标测量装置。在一方面，坐标测量装置包括基座组件，其包括底板，该底板具有配置成接受平面基板的顶面；以及图像捕捉设备的多维阵列，每个图像捕捉设备具有视场并且被设置在与底板的顶面的至少一部分平行且叠加对准的平面中。使多个图像捕捉设备的取向与多维阵列的平面垂直，以使各个图像捕捉设备的视场可捕捉底板的顶面的至少一部分。进一步地，可使多个图像捕捉设备的每一个选择性地定位在多维阵列的平面内定义的预定坐标中。

主权项

1.一种用于测量平面基板中畸变的方法，所述方法包括以下步骤：提供平面基板，在其表面上具有可视的多个畸变基准标记，使用图像捕捉设备的阵列生成各个基准标记的基准图像，使所述图像捕捉设备的阵列定位在相对于所述多个基准标记的预定位置中以使各个基准标记在所述多个图像捕捉设备之一的视场中；使所述平面基板经受致畸变处理情况；使用在所述预定位置中的图像捕捉设备的阵列生成各个基准标记的处理后的图像；以及将各个基准图像的处理后的图像与各个基准标记的基准图像进行比较以在所述多个图像捕捉设备的视场内测量在使所述平面基板经受所述致畸变处理情况之前和之后的所述基准标记的定位之间的任何偏差。